История изменений

Тут я не разбираюсь, сейчас открыл вики https://en.wikipedia.org/wiki/Electron-beam_lithography

Пишут что теоретически можно такое делать:

For research applications, it is very common to convert an electron microscope into an electron beam lithography system using relatively low cost accessories (< US$100K). Such converted systems have produced linewidths of ~20 nm since at least 1990, while current dedicated systems have produced linewidths on the order of 10 nm or smaller.

Про скорость:

For example, assuming an exposure area of 1 cm2… the resulting minimum write time would be 10**6 seconds (about 12 days).
To cover the 700 cm2 surface area of a 300 mm silicon wafer, the minimum write time would extend to 7*(10**8) seconds, about 22 years.

Но конечно если эта технология позволит получить хоть что-то за пару недель или месяц, какой-то кастомный ASIC, то это конечно было бы интересно для разработки и прототипирования, если у нас такое осилят то это будет чудо.

Тут я не разбираюсь, сейчас открыл вики https://en.wikipedia.org/wiki/Electron-beam_lithography

Пишут что теоретически можно такое делать:

For research applications, it is very common to convert an electron microscope into an electron beam lithography system using relatively low cost accessories (< US$100K). Such converted systems have produced linewidths of ~20 nm since at least 1990, while current dedicated systems have produced linewidths on the order of 10 nm or smaller.

Про скорость:

For example, assuming an exposure area of 1 cm2… the resulting minimum write time would be 106 seconds (about 12 days).
To cover the 700 cm2 surface area of a 300 mm silicon wafer, the minimum write time would extend to 7*(108) seconds, about 22 years.

Но конечно если эта технология позволит получить хоть что-то за пару недель или месяц, какой-то кастомный ASIC, то это конечно было бы интересно для разработки и прототипирования, если у нас такое осилят то это будет чудо.

Тут я не разбираюсь, сейчас открыл вики https://en.wikipedia.org/wiki/Electron-beam_lithography

Пишут что теоретически можно такое делать:

For research applications, it is very common to convert an electron microscope into an electron beam lithography system using relatively low cost accessories (< US$100K). Such converted systems have produced linewidths of ~20 nm since at least 1990, while current dedicated systems have produced linewidths on the order of 10 nm or smaller.

Про скорость:

For example, assuming an exposure area of 1 cm2… the resulting minimum write time would be 10**6 seconds (about 12 days).
To cover the 700 cm2 surface area of a 300 mm silicon wafer, the minimum write time would extend to 7*108 seconds, about 22 years.

Но конечно если эта технология позволит получить хоть что-то за пару недель или месяц, какой-то кастомный ASIC, то это конечно было бы интересно для разработки и прототипирования, если у нас такое осилят то это будет чудо.

Тут я не разбираюсь, сейчас открыл вики https://en.wikipedia.org/wiki/Electron-beam_lithography

Пишут что теоретически можно такое делать:

For research applications, it is very common to convert an electron microscope into an electron beam lithography system using relatively low cost accessories (< US$100K). Such converted systems have produced linewidths of ~20 nm since at least 1990, while current dedicated systems have produced linewidths on the order of 10 nm or smaller.

Про скорость:

For example, assuming an exposure area of 1 cm2… the resulting minimum write time would be 106 seconds (about 12 days).
To cover the 700 cm2 surface area of a 300 mm silicon wafer, the minimum write time would extend to 7*108 seconds, about 22 years.

Но конечно если эта технология позволит получить хоть что-то за пару недель или месяц, какой-то кастомный ASIC, то это конечно было бы интересно для разработки и прототипирования, если у нас такое осилят то это будет чудо.